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    • LED合金爐

      現在聯系LED合金爐爐特點 : 關鍵件全部采用進口件,具有高可靠性 具有可編程的升、降溫功能 具有斷電報警、超溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能。 具有高抗干擾能力 具有多種工藝管路,可供用戶隨意靈活配置 ★ 育豪可為您提供斜滾式推拉舟系統,石英雙桿推拉舟系統及SiC漿推拉舟系統?!锟膳涔に嚬軘?/span>

    • 砷化鎵VGF單晶爐

      現在聯系砷化鎵VGF單晶爐產品應用:主要用于2~6英寸鍺單晶、砷化鎵等化合物晶體的生長產品特點: 工業計算機控制系統(WINDOWS 系統界面,操作方便簡潔) 關鍵部件均采用進口,確保設備的高可靠性 控溫精度高,溫區控溫穩定性好 具有斷電報警、超溫/欠溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能 晶體生長均勻性

    • 砷化鎵多晶合成爐

      現在聯系砷化鎵多晶合成爐VGF 、HB 、HGF 、VB產品特點:★用于GaAs等化合物晶體的生長 ★按結構形式:垂直生長,水平生長★按生長方式:梯度生長及移動生長 ★晶體生長尺寸::2-6寸★設備分類:HB 、HGF 、VGF 、 VB ★提供專用的Ⅲ-Ⅴ,Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體的晶體薄膜生長制成專用設

    • 磁性材料真空燒結爐

      現在聯系磁性材料真空燒結爐主要技術指標:釤鈷退火每爐15-150公斤,燒結每爐35公斤工作溫度及均勻度:1000℃/1250℃±1.5℃真空度:5.0×10-1Pa(退火)/5.0×10-3Pa(燒結)滿足工藝要求的均勻升溫、冷卻控制方式:觸摸屏、工控機型號:VTO-250(燒結)/VTO-400(退火)

    • 氣冷爐體專利技術

      現在聯系氣冷爐體專利技術特點優勢:可實現溫度快速冷卻。1100-800℃-7-10 ℃的降溫速率,大大縮短生產工藝時間,提高生產效率,解決常規水冷系統的能耗因水垢堵塞弊端。

    • LPCVD擴散爐

      現在聯系LPCVD擴散爐一. 設備概述:LPCVD低壓化學氣相淀積是半導體集成電路制造的重要工序之一,本設備主要用于:4-6英寸硅片LTO=二氧化硅、SIPOS=含氧多晶硅、SI3N4=氮化硅、PSG=磷硅玻璃、POLY=多晶硅薄膜的生長。它是將原材料氣體(或者液態源氣化)用熱能激活發生化學反應而在基片

    • 立式爐專用加熱爐體

      現在聯系立式爐專用加熱爐體全系列半導體及光伏行業立式擴散爐等熱處理設備的高質量加熱爐體熱場,滿足6寸以上晶圓及電池片制造工藝,獨有的自動化制作工藝技術,專業的生產制造理念,造就加熱爐所具

    • 鏈式隧道爐

      現在聯系鏈式隧道爐一、產品描述:設備是通過熱的傳導、對流完成對工件的熱處理等工藝生產,設備可根據生產工藝的要求設計設備的長度等結構,爐膛內有一條連續運行的輸送系統,工件通過輸送網帶運行于爐膛工作室內,完成工件的相關熱處理生產,該設備連續式生產,生產效率高、節省人力、一致性高。二、指標參數:1、額定

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